（原标题：光掩模市集心电图 偷拍，相配乐不雅）
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起头：试验编译自semiconductor-digest，谢谢。
eBeam Initiative 是一个勇猛于扩充和锻练基于电子束（eBeam）工夫的新式半导体制造设施的论坛，今天告示完成第13届年度 eBeam Initiative Luminaries 访谒。本年的访谒有来自半导体生态系统的49家公司——包括光掩模、电子预备自动化（EDA）、芯片预备、建设、材料、制造和征询等限制的行业各人参与。
访谒后果线路，100%的受访者瞻望2024年的光掩模收入将比2023年增多（74%）或保抓不变（26%）。在翌日三年的建设采购方面，行业各人对翌日抓积极气魄，瞻望多束光掩模写入机（93%）、光掩模查验建设（85%）和激光光掩模写入机（48%）的采购量将有所增多。此外，信服莫得聘请EUV工夫的晶圆厂不错在7年内罢了5nm工艺的受访者比例，从客岁的12%高涨到了本年的19%。
本年的 Luminaries 访谒新增了对于EUV光掩模保护膜和高数值孔径（NA）拼接工夫的问题。81%的受访者合计高NA EUV光掩模的拼接需要预备师在预备时堤防拼接鸿沟。33%的受访者合计使用保护膜的EUV光掩模的寿命至少比莫得保护膜的长3倍。
2024年7月进行的 Luminaries 访谒中的其他观念：
74%的受访者喜悦弧线反演光刻工夫（ILT）对非EUV的193i工艺的训诫节点是灵验的，而29%的受访者横蛮喜悦这一说法，比较客岁为24%。
55%的受访者暗示，今天的训诫节点的一些枢纽层正在使用ILT工夫，这一比例高于客岁的46%和两年前的35%。
光掩模车间的软件基础设施仍然是出产具有弧线相貌光掩模的最大挑战。
对深度学习工夫的接收瞻望推迟了一年，54%的受访者瞻望到2025年，深度学习将在光掩模制造历程的任何设施中成为竞争上风，而客岁的访谒中有56%的受访者瞻望是在2024年。
“咱们期待在SPIE光掩模会议上渡过一个欢叫东说念主心的周，咱们将专揽第15届年度光掩模会议——这讲明了扫数半导体生态系统对这一相助论坛的抓续横蛮复旧，”eBeam Initiative 的科罚公司补助商D2S的CEO藤村昭（Aki Fujimura）暗示。“对于光掩模行业来说，当今确乎是一个欢叫东说念主心的时代，频年来该行业罢了了强盛的增长——这讲明了光掩模社区内的稀薄东说念主才，以及该行业在鼓舞半导体翻新方面日益进军的地位。令东说念主雀跃的是，本年的eBeam Initiative Luminaries访谒中，绝大大齐代表行业顶尖交易和工夫各人的参与者齐合计这一增长趋势将在2024年接续。”
https://www.semiconductor-digest.com/ebeam-initiative-survey-of-semiconductor-luminaries-predicts-photomask-market-growth-and-increasing-investments-in-mask-inspection-and-multi-beam-mask-writing/
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